Ugrás a tartalomhoz

 

Reduction possibility of residual stresses from additive manufacturing by photostress method

  • Metaadatok
Tartalom: http://real.mtak.hu/63592/
Archívum: MTA Könyvtár
Gyűjtemény: Status = Published



Type = Article
Cím:
Reduction possibility of residual stresses from additive manufacturing by photostress method
Létrehozó:
Ficzere, PĂ©ter
Borbás, Lajos
Szebényi, Gábor
Kiadó:
Elsevier
Dátum:
2017-07-01
Téma:
T2 Technology (General) / műszaki tudományok általában
TS Manufactures / különféle iparágak, ipari termékek
TS50 Rubber industry. Plastics industry / gumi- és műanyagipar
Nyelv:
magyar
Típus:
Article
PeerReviewed
info:eu-repo/semantics/article
Formátum:
text
Azonosító:
Ficzere, Péter and Borbás, Lajos and Szebényi, Gábor (2017) Reduction possibility of residual stresses from additive manufacturing by photostress method. MATERIALS TODAY: PROCEEDINGS, 4 (5). pp. 57997-579802. ISSN 2214-7853
Kapcsolat:
https://doi.org/10.1016/j.matpr.2017.06.048